Field dependence of relaxation rates in 3He-plus-substrate systems

Publikation: Bidrag til tidsskriftTidsskriftartikelfagfællebedømt

OriginalsprogEngelsk
TidsskriftJapanese Journal of Applied Physics
Vol/bind26
Udgave nummer3, Part 1
Sider (fra-til)329-330
Antal sider2
DOI
StatusUdgivet - 1 jan. 1987

ID: 128333193